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產(chǎn)品資料

浸漬提拉涂膜機(jī)

如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱(chēng): 浸漬提拉涂膜機(jī)
產(chǎn)品型號(hào): SYDC-300型
產(chǎn)品展商: 上海三研
產(chǎn)品文檔: 無(wú)相關(guān)文檔

簡(jiǎn)單介紹

SYDC-300型浸漬提拉涂膜機(jī)Dip Coater 是專(zhuān)門(mén)為液相(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì),對(duì)不同液體通過(guò)浸漬提拉生長(zhǎng)薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng),可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。


浸漬提拉涂膜機(jī)  的詳細(xì)介紹

SYDC-300型浸漬提拉涂膜機(jī) Dip Coater


一.    產(chǎn)品應(yīng)用

SYDC-300型浸漬提拉涂膜機(jī)主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中,通過(guò)預(yù)先設(shè)置參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度慢慢提拉起來(lái),在基片上附著一層膜,稱(chēng)為濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜。干凝膠膜經(jīng)過(guò)進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。

提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng),可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。

適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面鍍膜。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。

二.    SYDC-300型浸漬提拉涂膜機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)

1.     采用伺服電機(jī)驅(qū)動(dòng),配合德國(guó)原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置和程序控制系統(tǒng),確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性; 伺服電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)的高精度、平滑性、無(wú)抖動(dòng)等特點(diǎn)是步進(jìn)電機(jī)不可比擬的。

2.     全新升級(jí)為德國(guó)原裝進(jìn)口的垂直提拉裝置部件,采用特種功能材料制作,具有精密度高、傳動(dòng)無(wú)間隙、運(yùn)行平滑、耐腐蝕、終身免維護(hù)、使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)。

3.     采用箱體式設(shè)計(jì),鍍膜溶液及樣品均置于密閉箱體內(nèi),避免外界環(huán)境的干擾;前門(mén)及側(cè)面采用透明玻璃,便于觀察鍍膜過(guò)程;

4.     多參數(shù)全自動(dòng)程序控制。共有六個(gè)參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時(shí)間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時(shí)間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個(gè)鍍膜過(guò)程全自動(dòng)運(yùn)行。

5.     可全自動(dòng)運(yùn)行鍍膜,也可進(jìn)入手動(dòng)操作模式鍍膜;

6.     7英寸觸摸屏控制。運(yùn)行時(shí),各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程;

7.     高、低速均運(yùn)行平穩(wěn),工作時(shí)液面無(wú)振動(dòng),使成膜更均勻;

8.     標(biāo)配3個(gè)夾具夾持基片,更牢固更穩(wěn)定。夾具夾口兩面都有一層橡膠墊,不會(huì)夾壞基片。

三.     SYDC-300型浸漬提拉涂膜機(jī)技術(shù)參數(shù)

1.     提拉速度范圍:110000 μm/s,較小分辨率1 μm/s;

2.     速度精度:-0.01%+0.01%;

3.     較大行程:約370 mm(以實(shí)際為準(zhǔn));

4.     適用基片尺寸:MIN 10×10 mm,MAX 300×300 mm,厚度 MAX 10mm;

5.     浸漬時(shí)間:13600 s,較小分辨率1s;

6.     循環(huán)鍍膜次數(shù):11000次,少至1次;

7.     循環(huán)間隔時(shí)間:13600 s,較小分辨率1s;

8.     電源:220V/50Hz



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