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產(chǎn)品資料

氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)

如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱: 氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)
產(chǎn)品型號: SYDC-100N
產(chǎn)品展商: 其它品牌
產(chǎn)品文檔: 無相關(guān)文檔

簡單介紹

SYDC-100N氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為氮?dú)鈿夥毡Wo(hù)下的液相法(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)。對不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。


氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)  的詳細(xì)介紹
SYDC-100N氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī) Dip Coater
一.    產(chǎn)品應(yīng)用
本產(chǎn)品主要用于在氮?dú)鈿夥毡Wo(hù)下,采用溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液(溶膠)中,通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù),將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜,稱為濕凝膠膜,隨著濕凝膠膜膜層中溶劑的揮發(fā),膜層在基片上固化成為干凝膠膜。干凝膠膜經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。膜層厚度由提拉速度,液體濃度和液體粘度決定。
二.    產(chǎn)品簡介
氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為氮?dú)鈿夥毡Wo(hù)下的液相法(特別是sol-gel法)制備薄膜材料的研究工作而設(shè)計(jì)。垂直提拉機(jī)構(gòu)置于密閉箱體內(nèi),箱體側(cè)壁設(shè)有氮?dú)膺M(jìn)口及壓力控制系統(tǒng)。鍍膜時,將溶液放入箱體內(nèi),基片加持在垂直提拉機(jī)構(gòu)上,將氮?dú)獬錆M箱體(氮?dú)獾某淙肓靠赏ㄟ^控制箱體內(nèi)的濕度來調(diào)節(jié)),設(shè)置鍍膜參數(shù)后即可在氮?dú)鈿夥盏谋Wo(hù)下對溶液進(jìn)行提拉鍍膜。
適用于膜層易氧化、對濕度敏感的薄膜材料。還可充入氬氣等惰性氣體。
提拉速度、提拉高度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)(多次多層鍍膜)、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、精密控制。對鍍膜基質(zhì)無特殊要求,片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時液面無振動,可極大提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。
適用于硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品生產(chǎn)。
三.    氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)
1.        提拉裝置、程序控制系統(tǒng)均采用中國臺灣及德國進(jìn)口產(chǎn)品,確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性;
2.        多參數(shù)全自動程序控制。共有六個參數(shù)設(shè)置:下降速度、浸漬時間、提拉速度、鍍膜尺寸、鍍膜次數(shù)、鍍膜間隔時間,各參數(shù)均連續(xù)可調(diào),精密控制。
3.        鍍膜程序設(shè)定后,從下降到浸漬,再到提拉鍍膜的整個鍍膜過程全自動運(yùn)行。
4.        高、低速均運(yùn)行平穩(wěn),鍍膜時液面無振動,使膜層更均勻、無條紋。
5.        采用4.3英寸液晶觸摸屏使控制更方便。運(yùn)行時,各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時顯示,更直觀了解鍍膜進(jìn)程。
6.        上下兩端均安裝有限位傳感器,提拉或下降運(yùn)行時,到限位處自動停止,避免提拉或下降的超限運(yùn)行。
7.        采用獨(dú)特設(shè)計(jì)的平口型夾具,兩面均勻夾持樣片,不會夾壞樣片。
8.        高精度氮?dú)鈧鞲衅?。以及?dú)有的氮?dú)夤?jié)約裝置,氮?dú)庀牧糠浅5汀?/span>
四.    氮?dú)獗Wo(hù)浸漬提拉鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù)
1.        提拉速度范圍:15000 μm/s,較小分辨率1μm/s;
2.        速度精度:-0.02%+0.02%
3.        大行程:230 mm
4.        適用基片尺寸:MIN 10×10 mmMAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm
5.        浸漬時間:11200 s,較小分辨率1s
6.        鍍膜次數(shù):1100次,1次;
7.        每次鍍膜間隔時間:13600 s,較小分辨率1s;
8.        濕度控制范圍:1%60%,可調(diào)1%;
9.        濕度精度:±3%
10.    溫度顯示范圍:-999
11.   電源:220V/50Hz
 
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